Serambi Kampus
Matriks Satuan Acara Perkuliahan
( SAP )

Institut Teknologi Nasional, MalangTeknik Elektronika

Dosen

Iskandar Zulkarnain

Konsultasi dan Asistensi

Tatap Muka

  • Di kampus, sesudah kuliah selama setengah jam
  • Di rumah:
    Manyar Kerta Adi 4 No 53
    Surabaya
    * hari: Senin - Jumat
    * sebelum pukul 07.00 WIB

Jarak Jauh

PadepokanVirtual

URL

     

Teknologi Rangkaian Terintegrasi

3 sks

Semester Genap

tahun 1999/2000

Hari

Jumat

Pukul

13.10

Tujuan Kuliah
Tujuan kuliah Teknologi Rangkaian Terintegrasi agar para mahasiswa dapat mendalami teknologi proses fabrikasi rangkaian terintegrasi (IC)

Bahan Kuliah
Untuk mencapai kuliah seperti tertera di atas tadi, kuliah Teknologi Rangkaian Terintegrasi yang akan diberikan meliputi pokok-pokok: proses fabrikasi/pembuatan rangkaian terpadu (IC); fotolitografi; oksidasi; difusi; implantasi ion; chemical vapor deposition (CVD); evaporasi; cara etching; pembuatan masker; tata letak; aturan perancangan; simulasi perancangan dan pembuatan dengan komputer.

Buku Acuan

VLSI TECHNOLOGY (Second Printing, 1984)
Author: S.M. Sze
Publisher: McGraw-Hill International Book company
INTEGRATED CIRCUIT ENGINEERING
Author: Arthur B. Glaser and Gerald E. Subak-Sharpe
Publisher: Addison-Wesley Publishing Company
FISIKA DAN TEKNOLOGI SEMIKONDUKTOR
Author: S. Reka Rio and Masamori Iida
Publisher: PT Pradnya Paramita
MICROELCTRONIC PROCESSING
Author: W. Scot Ruska
Publisher: McGraw-Hill Book Company
BASIC INTEGRATED CIRCUIT ENGINEERING
Author: Douglas J. Hamilton and William G. Howard
Publisher: McGraw-Hill Kogakusha, Ltd
INTEGRATED ELECTRONICS
Author: Jacob Millman and Christos C. Halkias
Publisher: McGraw-Hill Book Company

Evaluasi
Ujian tengah semester40 persen
Ujian akhir semester60 persen
Total100 persen

Acara Perkuliahan
This section will be developed as the course continues

Minggu ke 01:
10/03/2000
Teknologi rangkaian terintegrasi
Minggu ke 02:
17/03/2000
Proses fabrikasi dasar rangkaian terintegrasi: pertumbuhan kristal substrat, pertumbuhan epitaksial, pertumbuhan silikon dioksida, fotolitografi, pembuatan masker dan etching.
Minggu ke 03:
24/03/2000
Teori difusi: hukum difusi Fick
Minggu ke 04:
31/03/2000
Proses difusi: complementary error function, distribusi Gaussian, solid solubility, koefisien distribusi
Minggu ke 05:
07/04/2000
Proses difusi dua tahap, profil impuriti untuk transistor IC, tata letak transistor IC monolitik
Minggu ke 06:
14/04/2000
Ujian tengah semester
Minggu ke 07:
28/04/2000
Fabrikasi komponen elektronik dalam bentuk IC monolitik: dioda, resistor, kapasitor, dan interkoneksi aluminium
Minggu ke 08:
05/05/2000
Aturan perancangan IC monolitik
Minggu ke 09:
12/05/2000
Perancangan masker untuk: transistor
Minggu ke 10:
19/05/2000
Perancangan masker untuk: kapasitor dan resistor
Minggu ke 11:
26/05/2000
Transistor MOS
Minggu ke 12:
02/06/2000
Konstruksi transistor MOS
Minggu ke 13:
09/06/2000
Implantasi ion
Minggu ke 14:
16/06/2000
Pengaturan implantasi ion
Minggu ke 15:
23/06/2000
Ujian akhir semester


Last updated: August 30, 1999       Owner's LOG IN

We welcome your comment regarding how we can make this a better web site
and hope you enjoy the Serambi KAMPUS

© Copyright 1997-1998 PadepokanVirtual
All Rights Reserved
All Wrongs Re-Engineered